0 引言
       自2019年以来，我国开始推行新基建政策，这有力地促进了光纤宽带网络的优化升级，实现千兆光纤到楼、到基站以及光纤到工厂等服务[1]。在光通信系统中，光功率损耗是光信号在光纤传输过程中至关重要的技术指标。然而，在实际应用中，现场的安装环境会直接影响光纤的性能，严重时会导致光纤附加损耗剧烈增加。例如，光缆在局域网、工厂园区、数据中心和室内布线时，往往受空间限制导致光纤的弯曲半径变小，甚至小于10 mm或5 mm。传统的G.652D、G.657A1/A2光纤无法满足其性能要求。
　　目前，对于传统的弯曲不敏感单模光纤性能已有一定的研究[2-3]，但这种光纤仅适用于弯曲半径为10 mm以上的布缆环境。超强抗弯曲G.657.B3光纤能够使用在更狭小的空间，其剖面结构与光学性能之间的关联性却鲜有报道，仍有待进一步研究。因此，本文重点研究G.657.B3光纤的折射率剖面结构参数对光学性能的影响，从而满足实际生产的应用需求。

4 结束语
       本文通过对光纤折射率剖面结构与光学性能之间关联性的研究，讨论了剖面的结构参数对光纤宏弯性能、λcc、λ0和水峰的影响。研究结果表明：①当选择合适的包芯比b/a值时，可以改善光纤的宏弯性能、λcc和λ0。同时，即使在b/a值较小时，采用熔融工艺也可有效消除OH-扩散所引起的1383 nm波长处水峰增加的现象；②当调节剖面结构参数c、Δnc-能有效提高光纤的抗弯曲性能，但是需要平衡调节后所带来的λcc上升的现象；③VAD工艺和拉丝工艺会引起折射率剖面Δn+的变化，从而对光纤的模场直径和λcc产生影响。